2021年10月21日開催【プラズマ解析最前線 -第一線の研究者と技術者の協奏曲-】にて東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 池田 太郎 様よりご講演いただきました。

■タイトル：
プラズマプロセス量産装置のつくり方および最先端プラズマ照射ダメージの紹介　
IoT, AIを活用した「第四次産業革命」への突入に伴い, 半導体市場は急速な成長を迎えております。半導体の集積構造は,  この急速な成長の中で, 「2次元」から「3次元」へ更なる進化をしています。このような最先端の半導体デバイス素子を高集積化するには, ウェーハ上により高度な3次元形状をつくる必要があり, 「成膜」「リソグラフィ」「エッチング」「洗浄」が何度も繰り返し行われます。この3次元形状を高集積化していく技術として欠かせないのが,  プラズマプロセス技術およびプラズマプロセス装置技術であります。
講演は3部構成で行います。まず第1部で世界有数の半導体製造装置会社である東京エレクトロンおよび東京エレクトロングループで半導体製造装置の主に成膜部門を担当している東京エレクトロン テクノロジーソリューションズの紹介をさせていただきます。次に第2部では, プラズマプロセス装置のつくり方について実施例をもとに説明いたします。最後に第３部では,  最先端のプラズマ照射ダメージ機構の研究について説明いたします。
半導体生産現場で使用されるプラズマ装置は,  研究室や実験室で使われるプラズマ装置と異なり,  様々な厳しい要求を満たすように設計・製造されなければなりません。それゆえ, そのような量産現場で用いられるプラズマプロセス装置には極めて高い技術力が要求されます。今回のセミナーでプラズマプロセス装置について, 少しでも興味を持っていただければ幸いです。

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【講師紹介】

東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 要素技術開発第2部 第1Gr 副主事 池田 太郎 様