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大面積メタサーフェスにむけた電子線リソグラフィのVSB/CP法によるNanogapの作製【セミナーアーカイブ】

公開日:2025年1月30日
最終更新日:2025年2月2日

こちらの資料は、「MEMS SENSING & NETWORK SYSTEM2025」(2025年1月開催)出展企業セミナーの講演資料をアーカイブ化したものです。

講演概要:

近年、ナノ構造を用いた光デバイス、ぷらずモニックデバイスの研究が盛んにおこなわれています。ナノ構造デバイスの作製には電子線描画装置が利用されますが、ポイントビーム法では大面積描画には向きません。本講演では、電子線描画装置の中でLSIのガラスマスクを作製する際に使われる可変成形ビーム法と特定の構造に特化したキャラクタープロジェクション法を用いた超高速高精細描画による金ナノギャップの作製方法およびCOMSOLを用いたプラズモンデバイスの設計について発表いたします。

■こんな方におすすめ:
大面積・超高精細電子線描画、ナノ構造、光デバイス、プラズモニックデバイス、光学シミュレーションに興味のある方

講師

肥後 昭男 先生
東京大学 大学院工学系研究科 特任講師

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