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- 大面積電子線描画のためのVSB/CP法を用いたシリコンレーストラック光共振器テスト構造の作製
概要
アドバンテスト社製電子線描画装置F7000S-VD02を用いて可変成形ビーム(VSB)/キャラクタープロジェクション(CP)法を組み合わせた電子線描画手法を用いて、従来のVSB法で問題になった斜辺や婉曲導波路の側壁粗さをCP法による低減する手法を提案する。テスト構造としてレーストラック型光共振器を用いて伝搬ロスを評価した。その結果、本提案のVSB/CP法を用いることで伝搬ロスを下げながら高速描画する可能性を見出した。
発表者
肥後 昭男
東京大学 大学院工学系研究科附属システムデザイン研究センター基盤設計研究部門 特任講師
キーワード
シリコンフォトニクス、細線光導波路、電子線描画、可変成形ビーム法、キャラクタープロジェクション法
資料公開
可(郵送)
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