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- 半導体と磁気光学材料のハイブリッド構造に基づくトポロジカルフォトニック結晶の設計に関する研究
概要
本報告では、磁気光学材料薄膜上に装荷したシリコンハニカム型フォトニック結晶スラブからなる構造について，COMSOL Multiphysicsを用いたフォトニックバンド構造の解析結果について紹介します。この構造では磁場引加なしではフォトニックバンドギャップを持ちませんが、スラブに垂直に磁場をかけることで、バンドギャップが現れます。また、同構造をSiO2基板上に形成した場合にもライトライン下でフォトニックバンドギャップが得られることがわかりました。
発表者
王 欣怡
東京大学 生産技術研究所 修士研究員
共同著者
Lu Guangtai（東京大学）
小林 伸聖（電磁材料研究所）
池田 賢司（電磁材料研究所）
岩本 敏（東京大学）
キーワード
フォトニック量子ホール（QHE）システム、トポロジカルバンドギャップ、磁気光学効果
資料公開
不可