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COMSOL Multiphysics®を活用した高速原子ビーム源の開発

概要

表面活性化接合と呼ばれるウエハ接合技術が注目されている。従来手法と比較して、常温かつ直接接合が可能なため、機能性複合ウエハやMEMS封止など、異種材料の接合に適用できる。この接合では、高速原子ビーム源を用いてウエハの表面活性化を行うが、従来は照射性能の不足が課題であった。本研究では、磁場印加によりプラズマを効率よく生成し、ビーム照射性能を向上させた高速原子ビーム源を開発し性能評価を行った。

発表者

加藤 泰成
名古屋大学 工学研究科マイクロ・ナノ機械理工学専攻 修士課程学生

共同著者

大島 京祐(名古屋大学 工学研究科 学生)
岡 智絵美(名古屋大学 工学研究科 助教)
櫻井 淳平 (名古屋大学 工学研究科 准教授)
秦 誠一 (名古屋大学 工学研究科 教授)

キーワード

表面活性化接合、高速原子ビーム源、磁場印加

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