【講演概要】
オンチップ微小液滴電気穿孔プロセスは新規のDNA導入法であり、細胞とDNAを微小液滴へ封入することで、iPS細胞の樹立効率を改善することを目指している。プロセスを実行するマイクロ流体デバイスを設計する中で、DNA導入が達成される流れと電場の条件を探索するため、数値解析による支援が必須となる。今回は、プロセスに含まれる液滴形成と膜電子透過化処理について計算結果を報告する。また、高専における研究環境について説明する。
【キーワード】
数値解析, 液滴形成, 電気穿孔
【使用製品】
COMSOL Multiphysics, マイクロフルイディクスモジュール, File Import for CATIA® V5【共同著作者】
佐世保工業高等専門学校 機械工学科 松山 史憲 様佐世保工業高等専門学校 物質工学科 城野 祐生 様
佐世保工業高等専門学校 専攻科 小佐々 拓巳 様
豊橋技術科学大学 機械工学科 手島（石井）美帆 様
豊橋技術科学大学 機械工学科 柴田 隆行 様
【Title】
Numerical analysis of on-chip microdroplet electroporation【Abstract】
The on-chip microdroplet electroporation process is a new DNA introduction method, which aims to improve the efficiency of iPS cell establishment by sealing cells and DNA into microdroplets. In designing a microfluidic device to perform the process, numerical analysis is necessary to support the search for the flow and electric field conditions under which DNA introduction can be achieved. In this presentation, we will report the computational results of the droplet formation and the membrane electron permeabilization process included in the process. The research environment at the KOSEN will also be explained.【Keyword】
Numerical analysis, Droplet formation, Electroporation本サイトの便利な機能や豪華景品が当たるアンケート詳細についてはこちらから