計測エンジニアリングシステム株式会社

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COMSOL解析事例

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計測

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アーク溶接におけるMHDシミュレーション

ガスタングステンアーク溶接(GTAW)、別名,タングステンイナートガス溶接(TIG)は、船舶、パイプライン、自動車など広い領域に応用されている。このプロセスの数値シミュレーションは、溶接入力パラメーターに応じて溶接部の特性を予測する大きな挑戦に臨んでいるが、それは溶接を改善し、品質と生産性を向上させる(1)。このプロセスに関係する多くの物理現象の間の強い結合があるため、数値モデリングは複雑になる。
ステンレス鋼へのGTA溶接の数値解析では、熱伝達と流れの挙動に応じて、温度場、流れ場および電磁場は、統一されたMHDの定式化でモデリングできる。アークプラズマにおける電子、イオン、中性粒子の輸送は解かず、伝熱、流体、電磁気を解く。ここでは、ガスの絶縁破壊を示すことで、放電によるガスの導電率の変化およびガスの熱伝達を計算した。図1のように、解析モデルに以下の計算条件を考慮する。

    図1. 解析モデル
  • 2D axial symmetry 2D軸対称
  • Direct current (DC) at the cathode カソードでの直流
  • Anode is grounded アノード接地
  • Electrode polarity: Cathode 電極の極性:カソード
    Direct current (DC) flows in one direction, resulting in a constant polarity
    直流が一方向に流れるため、極性が一定である。

本書では、解析モデルおよび、2章以後に図4の解析結果を作成する手順を示す。計算用のCOMSOLインターフェースが図2に示している。プラズマ放電の熱源${Q}$を伝熱(流体)インターフェースに連成させて、支配方程式を式(1)に示す。

     \(ρC_p\frac{∂T}{∂t}+ρC_pu\)∙\(∇T+∇\)∙\(q=Q\)
        \(q\)=-\(k∇T\)      
(1)

図2. COMSOLインターフェース
図2. COMSOLインターフェース

ここで、\(ρ\)は密度、\(C_p\)は比熱容量、\(T\)は温度、\(u\)は流速、\(q\)は熱流束、\(k\)は熱伝導率である。熱源\(Q\)は、マルチフィジックス機能によって以下に定義される。

  1)抵抗加熱 (オーム加熱):Q=J∙E
  2)正味放射損失 \(Q_{rad}\)
  3)エンタルピー輸送
   $\frac{∂}{∂T}$($\frac{5k_BT}{2q}$)\((∇T\)∙\(J)\)

カソード境界熱源\(Q_b\)は式(2)で表される

   \(-n\)∙(-\(k∇T\))=\(Q_b\)
   \(Q_b\)=-\(|J_{elec}|ϕ_s\)+\(|J_{ion}|V_{ion}\) 
   (2)

ここで、\(ϕ_s\)は表面仕事関数、\(V_{ion}\)はプラズマの電離電位、\(J_{elec}\)と\(J_{ion}\)はそれぞれ電子とイオンの電流密度である。
環境温度は20℃、ガスはアルゴンである。温度に依存するガスの導電率は図3に示されている。

  図3. アルゴンの導電率

放電時間は1sとします。図4はガスの導電率及び温度の分布の計算結果である。ガスの絶縁破壊を生じる時の導電率及び温度の進展は示されている。

  図4. ガスの導電率及び温度の分布

参考文献

1)A. Traidia, F. Roger, A. Chidley, J. Schroeder, T. Marlaud: “Effect of Helium-Argon Mixtures on the Heat Transfer and Fluid Flow in Gas Tungsten Arc Welding”, World Academy of Science, Engineering and Technology, 49, 2011.

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DCパルス放電プラズマシミュレーション

プラズマ窒化は古くから鉄鋼材料の表面改質用プロセスとして研究されてきた。パルスプラズマは、エッチング速度と堆積速度の向上、ダスト粒子の形成の減少、および堆積の均一性の特徴を示す。パルス放電窒化技術は、脆弱化合物層(窒化鉄化合物)の有無、窒化拡散層の深さを自在にコントロールし、理想の窒化層を形成できる。
近年、時間分解測定法による窒素とアルゴンにおけるパルスDC放電の電子密度分布の測定結果が掲載された1)。カソードに印加された電圧は-1~-2kV、パルス繰り返し周波数は0.4〜25kHz、デューティ比は10-50%である。この論文に対してDCパルス放電プラズマシミュレーションも既に報告された2)
そこで本例題は報告された解析モデル2)を参考しモデルを再構築する.モデル構造図は図1に示され、モデル領域はアノードにより囲んでカソード以上の半分の領域とする.ガスは窒素、温度は300K、圧力は10Pa、パルス繰り返し周波数は1kHz、デューティ比は25%である。アノードは接地し、カソードは電圧が-2kVで印加され、外部RC回路と繋がる。バラスト抵抗は100Ω、プロッキング容量は50nFである。
本書ではモデルおよび、図3の解析結果を作成する手順を示した。

  図1.モデル構造図1)

計算モデルは、電子、イオンと中性粒子の輸送、空間電荷場の計算方程式を連立して計算を行うが、紙数の都合でここではこれらの方程式の説明3)を省略する。電子輸送方程式におけるソース項には電子と分子や原子の衝突によって電子密度と電子エネルギーを変化することが含まれる。反応\(j\)の反応速度係数\(k_j\)は次の式で示される。

   \(k_{j}=γ\int ^{\infty }_{0}εσ_j (ε)f(ε)dε,γ=(2q/m)\)

ここで、\(ε\)は電子エネルギー、\(σ_j(ε)\)は衝突断面積、\(f(ε)\)は電子エネルギー分布関数 (EEDF)、\(q\)は電子の電荷、\(m\)は電子の質量である。考慮した化学種および化学反応は表1と2に示される2)

図2.COMSOLの非線形時間依存ソルバー
図2.COMSOLの非線形時間依存ソルバー

電子エネルギー分布関数はマックスウェル、カソードにイオン衝突による二次電子放出係数は0.25、二次電子平均エネルギーは2.5である。また、電極表面にイオンと励起種の付着係数は1, 窒素原子の付着係数は0.07である。
プラズマシミュレーションは、高度な非線形解析なので、ここではソルバーの追加設定する必要になっている。図2にCOMSOLの非線形時間依存ソルバーの強連成ソルバーの設定画面を示す。ヤコビアン更新は各タイムステップから「反復毎」に切り換えた。最大反復回数とトレランス因子も調整した。
図3にパルスDC放電シミュレーション結果を示している。計算時間は17時間42分でした。計算用のパソコンスペックは以下の通りである。

1.OS: WINDOWS 10
2.CPU: Intel(R) Xeon(R) CPU E5-1660 v2 @ 3.70GHz
3.メモリ RAM 128 GB

  (c) 平均電子密度およびカソード表面のパルス電位

  図3. パルスDC放電シミュレーション結果

参考文献

1)A. Pandey, W. Sakakibara, H. Matsuoka, K. Nakamura, and H. Sugai, “Time-resolved curling-probe
measurements of electron density in high frequency pulsed DC discharges”, Jpn. J. Appl. Phys., 55, 016101 (2016).
2)L. Z. Tong, “Simulation Study of High-Frequency Pulsed DC Discharges in Nitrogen”, Proceedings of the 2017 COMSOL Conference in Boston.
https://www.comsol.jp/paper/simulation-study-of-high-frequency-pulsed-dc-discharges-in-nitrogen-51903
3)放電・プラズマ気相シミュレーション技法調査専門委員会編,「放電・プラズマ気相シミュレーション技法:佟立柱,竹内希,3.3 COMSOL Multiphysicsを用いた非熱プラズマと熱プラズマの計算」,電気学会技術報告第1488号,pp. 70-74 (2020).

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軸対称定常熱伝導解析

PDEモデルに基づく2D軸対称シミュレーション

軸対称問題は中心軸を含む任意の断面内で物理現象が同一となる問題である。この問題は二次元問題ときわめてよく似ており、円柱座標系を使う二次元的な解析手法が適用できる。COMSOL Multiphysicsは、軸対称物理インターフェースで円筒座標をサポートしている。しかしながら、COMSOL MultiphysicsのPDEモデルを利用する際、デカルト座標系から円筒座標系に手動で変更する必要がある。本チュートリアルでは、温度拘束された円筒の軸対称定常熱伝導解析を例として、COMSOL MultiphysicsのPDEモデルで座標変換する手法を紹介する。
軸対称定常熱伝導解析モデルを、図1に示す。

   図1. 解析モデル1)

寸法と物性値は表1に示される。

ここで、κは熱伝導率である。境界条件では、内壁と外壁の温度はそれぞれ10℃と0℃で、上下の境界は断熱とする。このモデルに対して、半径方向 r[mm]の温度分布の解析解を次の式により計算できる。

本書ではモデルおよび、図2の解析結果を作成する手順を示す。
定常熱伝導問題の微分方程式は次式で表される。

   \(ρC_p u\)∙\(∇T+∇\)∙\(q=Q\)
   ${q}$=-${κ∇T}$

ここで、u=0とQ=0であり、計算方程式は以下のようになる。

   ${∇}$∙${(}$-${κ∇T)=0}$

ここで、${Γ}$=-${κ∇T}$は熱流束を意味する。COMSOLのPDEインターフェースは${∇}$∙${Γ}$を

   $\frac{∂Γ_r}{∂r}$+$\frac{∂Γ_z}{∂z}$

で示す。これは${∇}$∙${Γ}$の円筒座標系の形式と一致しない。
円筒座標系では、${∇}$∙${Γ}$は

   ${∇}$∙${Γ}$=$\frac{1∂}{r}$$\frac{(rΓ_r)}{∂r}$+ $\frac{∂Γ_z}{∂z}$=$\frac{∂Γ_r}{∂r}$+$\frac{∂Γ_z}{∂z}$+ $\frac{Γ_r}{r}$

となる。COMSOLのPDEインターフェースはこの式の最後の項が含まれない。
COMSOLの物理インターフェースはデカルト座標系または曲線座標系に対応する微分演算子(共変微分. 物理法則は座標系に関わらず成り立つ)を利用するため、デカルト座標系から曲線座標系に変更する必要がなくなるが、PDE方程式ベースのモデリングでは、偏微分が使われるため、この座標系の変更が必要になる。本チュートリアルでは、COMSOLの係数形式PDEおよび一般形式PDEインターフェースを利用する。支配方程式は次式で表される。

ここで、${∇}$=[$\frac{∂}{∂r}$,$\frac{∂}{∂z}$]、変数とその係数の扱いの詳細は例えば文献2)を参照されたい。${∇}$∙${Γ}$の発散式によって、係数形式PDEの係数は以下に定義できる。その以外の係数は0になる。

一般形式PDEの係数は${Γ}$に、-${κ×T_r}$と-${κ×T_z}$、${f}$に${κ×T_r/r}$で、以下のように設定される。

  図2. 温度分布

COMSOLの伝熱(固体)、係数形式PDEおよび一般形式PDEのインターフェースによって計算した結果を図2に示した。温度分布の計算結果は解析解とよく一致したことは示された。

参考文献

1)田中正隆,松本敏郎,中村正行,計算力学とCAEシリーズ: 境界要素法,培風館,1991.
2)COMSOL Multiphysics 5.6 – http://www.comsol.com/products and COMSOL Multiphysics Reference Manual.

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ノズル噴流のシミュレーション

CFD解析のベンチマーク分析

噴流現象は、ノズル、スリットなどの小孔から速度を持った流体が空間中に噴出する現象であり、加熱・冷却、洗浄、消防、加工、噴霧、燃焼、など極めて多様な分野で使用されており工業的にも極めて重要な事象である。
ノズルによる噴流はノズル出口近傍の速度分布、拡がり、巻き込み特性、などの流動特性がノズル形状によって大きく影響される。そこで本例題は図1に示す四分円ノズルの軸対称円形ノズルを用い、圧縮性を考慮しなくてよい範囲で十分発達した乱流の場合(Re=1.5×1041)について、空気噴流を計算し、測定値と比較して噴流の流動特性を検討する。CRはノズル絞り面積比である。

  図1. ノズル形状

解析モデルは図2に示す。軸対称二次元モデルであり、直管部の長さL=500mm,\(L/d_o\)=50、ノズル出口からモデルの流出口までの距離は400mm,流出口幅は80.75mmである。温度は20℃,圧力は1atmである。
本書ではモデルおよび、図3の解析結果を作成する手順を示した。

  図2.解析モデル

計算には、${k}$-${ε}$乱流モデルを用いて圧縮流と非圧縮流を考慮する。レイノルズ数${Re}$は次の式で表される1)
 \(Re=u_m d_o/v\)   (1)
ここで、\(u_m\)はノズル出口平均速度、\(d_o\)はノズル出口直径、${v}$は動粘性係数である。本モデルは、流入口の流速が式(1)に示したノズル出口のレイノルズ数${Re}$により決まる。COMSOLスタディの補助スイープを用いて、Re=1.5×104に満たす流入口の流速\(u_m\)=2.565m/sを得た。
${k}$-${ε}$乱流モデルの支配方程式は次の式で示される。

   (2)

紙数の都合でここではこれらの方程式の説明を省略する。
COMSOLスタディの補助スイープによって、計算したノズル出口平均速度は以下のテーブルに示され、理論値とフィッティングしたことが明らかになった。

図3(a)にノズル噴流の軸対称二次元モデルの計算結果の3D表示である。最大の流速は24.8 m/sになった。測定値1)と比較した結果は図3(b)に示され、大体一致することが分かった。

  図3. ノズルの噴流速度および測定値との比較

参考文献

1)鬼頭みずき,社河内敏彦,軸対称噴流の流動特性に対するノズル形状の影響 奈良工業高等専門学校研究紀要 , No.45, pp.19-24 (2009).

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ナノ薄膜の熱伝導

光パルスが照射するナノ薄膜の熱伝導、温度の時間発展モデル

技術が進歩しナノテクノロジーを駆使したデバイスが増えるにつれ、ナノスケールにおける熱輸送、特に物体と物体の継ぎ目である界面や薄膜材料における熱輸送が注目を浴びている。ナノスケールの薄膜は熱伝導に寄与するフォノンが界面で頻繁に散乱されるため、バルク材料と比較して熱伝導率が大きく低下することがあり、界面での熱輸送を無視できなくなる。
時間領域サーモリフレクタンス法(Time-Domain Thermoreflectance; TDTR)は非接触で測温が可能であり、高い時間分解能での物体温度の非定常測定を可能にした。ここでは、薄膜の面内熱伝導率測定に利用されるTDTR法を考慮する。この方法は、アルミニウムの反射率が温度に依存することを利用し、パルス加熱によって変化するプローブ光の強度を記録することで熱拡散現象を捉え、熱伝導率を得る光学的計測手法である。図1のように、測定したい薄膜をエアブリッジ化し、その中央にアルミ薄膜 (Aluminum)を用意し、アルミに集光した光パルスを照射する。

  図1. 解析モデル
  図2. 光パルスの定義

図2のような熱拡散時間よりも充分に短くなる光パルスを考慮する。10µsまで加熱し、その後は、Si薄膜を通じた熱散逸により温度が下がっていく。この減衰時間が熱拡散率の情報を含んでおり、密度と熱容量と合わせて、実験データを再現するような熱伝導率を本シミュレーションで探索し、得ることができる。
本書では、光パルスが照射するナノ薄膜の熱伝導、温度の時間発展を示すモデルおよび、2章以後に図3の解析結果を作成する手順を示した。
計算モデルは、光パルスを熱源とした伝熱計算である。ここでは、COMSOLの伝熱 (固体)インターフェースを利用する。支配方程式を式(1)に示す。

ここで、ρは密度、\(C_p\)は比熱容量、${T}$は温度、uは流速、qは熱流束、${k}$は熱伝導率、${Q}$は付加熱源、\(Q_{ted}\)は熱弾性減衰である。光パルスはアルミ薄膜においてqの境界条件として以下の式で定義される(1)

$$I_{0}\exp \left( -\dfrac{x^{2}+y^{2}}{2\left( rg\right) ^{2}}\right)    (2)$$

ここで、\(I_0\)はレーザーパワー、rgはガウス光線の波長である。
環境温度は295Kである。計算は熱源を印加する1µs前からスタートされ、熱源を印加している間は0.5µs間隔に出力時間を設定する。また、熱が逃げていく過程は減衰時間を得るために特に重要なため、過熱終了の直前からはより細かく、0.2µs間隔に設定する。COMSOLの時間ステッピングメソッドを「厳密」に設定することで、計算は指定された時間に従うが、必要に応じて、設定された時間の間に追加の計算も行う。
アルミ薄膜の中央に観測点を設定し、温度の時間発展を表示する。図3に観測点の位置と温度およびナノ薄膜の温度を示している。

   (a)観測点の位置と温度
   (b)薄膜の温度

   図3.温度の時間発展

図3(a)に示したように,観測点の温度は35µs以後に熱減衰が完了する。t=10µs,13µsの異なる減衰時間後のナノ薄膜の温度分布は図3(b)に示されている。

参考文献

1)R. Anufriev, A. Ramiere, J. Maire and M. Nomura, “Heat guiding and focusing using ballistic phonon transport in phononic nanostructures”, Nature Communications, DOI: 10.1038/ncomms15505.

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